联合化学跌1.28%,成交额1.15亿元,近3日主力净流入447.71万
使用资料公司请求用于金属氧化物光刻胶之干式显影专利,经显影的抗蚀剂层具有穿过抗蚀剂层的开口
容大感光(300576.SZ):暂无ArF光刻胶产品的研制和出产的相关方案
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世名科技:到2025年年度报告,公司已完结多条光刻胶颜料涣散液中试实验线建造
A股午评:上证指数涨0.51% 电子化学品、半导体、光刻胶板块涨幅居前
化工ETF鹏华(159870)收涨超1.6%,树脂、光刻胶、六氟化钨等AI资料继续活泼
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世名科技:公司光刻胶颜料涣散液是TFT-LCD显现器用五颜六色光刻胶要害质料
投资者发问:董秘您好,公司与TCL建立的合资公司,现在纳米颜料涣散液产品的...
投资者发问:董秘您好,公司高纯UV单体是不是可以使用于PCB干膜光刻胶范畴,...
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江苏鲁汶仪器请求一种半导体结构及其制备办法专利,确保制备的半导体结构的质量较高
AI 开端步入资料实验室:一家我国公司测验让高分子研制从“经历驱动”走向“智能协同”
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日月新请求一种新式介电层涂布办法专利,可改进高黏性聚酰亚胺在制备低膜厚介电层时的边际膜厚偏高问题
